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產(chǎn)品詳細頁(yè)
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
簡(jiǎn)要描述：Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章納米級紋理凹槽表面可變凹槽周期和凹槽深度納米光子學(xué)研究應用的理想選擇
產(chǎn)品型號：- 廠(chǎng)商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間：2024-07-25
- 訪(fǎng) 問(wèn) 量：222
產(chǎn)品介紹
| 品牌 | Edmund Optics | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 綜合 |
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
納米級紋理凹槽表面
可變凹槽周期和凹槽深度
納米光子學(xué)研究應用的理想選擇
通用規格
涂層:
Uncoated
構造 :
RIE Grating
基底:
Single Crystal Silicon
表面質(zhì)量:
60-40 (within CA)
厚度 (mm):
0.68 ±0.05
型號
| 產(chǎn)品編碼 | Period (nm) | 尺寸 (mm) |
| 16-855 | 855 ±42.75 | 12.50 x 12.50 |
| 16-856 | 855 ±42.75 | 25.00 x 25.00 |
| 16-857 | 139 ±6.95 | 12.50 x 12.50 |
| 16-858 | 139 ±6.95 | 25.00 x 25.00 |
詳細資料
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級紋理表面組成。通過(guò)反應離子蝕刻，具有梯形橫截面的線(xiàn)性凹槽被蝕刻到基板表面，類(lèi)似于傳統的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規格，以及更復雜的圖案，例如晶格。II-VI LightSmyth™ 納米圖案硅印章是光學(xué)和光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、納米壓印和微流體領(lǐng)域的納米光子學(xué)研究應用的理想選擇。
請注意: II-VI Incorporated 已變更為 Coherent Corp.
技術(shù)數據
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